Buscar en Google Scholar
Título: Estudio de la evolución de la morfología superficial y cristalización de películas delgadas de Cu/SiO2 tratadas térmicamente
Asesor(es): Bustamante Domínguez, Ángel Guillermo
Campo OCDE: https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.01
Fecha de publicación: 2011
Institución: Universidad Nacional Mayor de San Marcos
Resumen: Estudia la formación de fases, cristalización, evolución morfológica superficial y resistividad eléctrica de los óxidos formados en películas delgadas de Cu (100 nm) depositadas sobre sustratos de SiO2/Si luego de ser sometidos a tratamientos térmicos ex-situ a diferentes temperaturas entre 150 ºC y 1000 ºC. A medida que la temperatura de recocido aumenta y con la difracción de rayos X (DRX) y los patrones de la power difraction data file (PDF) se detectó la siguiente evolución de fases: Cu  Cu + Cu2O  Cu2O  Cu2O + CuO  CuO. Películas delgadas monofásicas de Cu2O se obtuvieron luego de someter las muestras a una temperatura de 200ºC por tres horas, mientras que películas uniformes de CuO sin defectos superficiales (tales como terrazas, huecos, porosidad o grietas), se obtuvieron en el rango de temperaturas entre 300ºC y 500ºC. En ambos óxidos, la cristalización mejora con la temperatura de recocido. Se presenta además un diagrama de fase de resistividad, obtenido a partir de medidas de corriente - voltaje. Al construir dicho diagrama, se esperó que la resistividad se incrementase linealmente en función de la temperatura de recocido. Sin embargo se observó caídas de resistividad anómalas en diferentes rangos de temperatura, entre 250º – 275 ºC y 300º - 550 ºC. Estas caídas en la resistividad podrían estar relacionadas con el mejoramiento de la cristalización y el tamaño de los cristalitos en las películas de Cu2O y CuO originados al aumentar la temperatura de recocido.
Nota: Publicación a texto completo no autorizada por el autor
Disciplina académico-profesional: Física
Institución que otorga el grado o título: Universidad Nacional Mayor de San Marcos. Facultad de Ciencias Físicas. Escuela Académico Profesional de Física
Grado o título: Licenciado en Física
Fecha de registro: 12-ago-2020; 12-ago-2020



IMPORTANTE
La información contenida en este registro es de entera responsabilidad de la universidad, institución o escuela de educación superior que administra el repositorio académico digital donde se encuentra el trabajo de investigación y/o proyecto, los cuales son conducentes a optar títulos profesionales y grados académicos. SUNEDU no se hace responsable por los contenidos accesibles a través del Registro Nacional de Trabajos de Investigación – RENATI.