Citas bibligráficas
Llontop, P., (2017). Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas [Pontificia Universidad Católica del Perú]. http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685
Llontop, P., Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas []. PE: Pontificia Universidad Católica del Perú; 2017. http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685
@mastersthesis{sunedu/2663395,
title = "Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas",
author = "Llontop López-Dávalos, Paul David",
publisher = "Pontificia Universidad Católica del Perú",
year = "2017"
}
A low temperature thin film electrical resistivity measurement system was implemented by employing a closed cycle helium cryogenic system, a temperature control system and a resistivity measurement system. In order to verify the implemented system, six Al contacts were deposited along each diagonal on a square low doped p-type Si sample for resistivity measurement at different temperatures starting at 66K. Measurement error magnitude as a function of the contact distance relative to the sample corners was determined by two methods. Discussion of the temperature dependence of resistivity was carried out with the lowest error results.
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