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Valdivia Rodas, José Noé (es_PE)
Siancas Huerta, Manuel Reynaldo (es_PE)
2023-05-17T16:29:25Z
2023-05-17T16:29:25Z
2023
https://repositorio.unp.edu.pe/handle/20.500.12676/4427
En el presente trabajo se analizó y describió los diferentes mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica, el estudio se restringió a un enfoque teórico. El flujo atómico de los diversos mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica fue determinado, asimismo se desarrolló una relación entre el tiempo de vida útil de una interconexión metálica de película delgada y la densidad de flujo de electromigración. Se establece que el mecanismo dominante del fenómeno de electromigración es el de difusión debido a la disminución de la energía de activación a través de los límites de grano. (es_PE)
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Mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica (es_PE)
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18114592
https://orcid.org/0000-0001-8876-6729 (es_PE)
48237030
533056 (es_PE)
Morales Ramírez, Whinsgton (es_PE)
Espinoza Nima, Rudy Guiseppe (es_PE)
Carrasco Porras, Ángel (es_PE)
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Pública
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