Fabricación y caracterización de películas nanométricas de Óxido de Zinc (ZnO)

Abstract

El óxido de Zinc es considerado uno de los mejores fotocatalizadores en la industria debido a sus propiedades fisicoquímicas tales como el ancho de band gap, área superficial, tamaño y morfología del cristal, fase cristalina, etc. Para lograr ese resultado es importante que el Zinc este en su forma de oxido. Una de sus grandes aplicaciones es el tratamiento de aguas residuales en base a reacciones de oxidación y de reducción. Una forma de modificar sus propiedades electrónicas y estructurales es variando su estructura cristalográfica ya sea en bulk, nanopartícula o película delgada. En este contexto, el objetivo de este estudio fue preparar películas nanométricas de ZnO y encontrar las mejores condiciones de crecimiento para una muestra bien definida. Entonces, para comprender sus propiedades electrónicas y estructurales, fabricamos películas delgadas de ZnO sobre un sustrato metálico orientado – Ag (001). Para la deposición de las películas usamos la técnica de evaporación por haz de electrones y modificamos el parámetro de crecimiento como el espesor en las muestras. La presión parcial de oxígeno usada fue de 5 10-6 mbar. Mientras que las características químicas (como estado de oxidación e identificación de las especies químicas) de las muestras fueron investigadas por la espectroscopia de fotoemisión por Rayos X y su estructura superficial (parámetro de red y plano preferencial de crecimiento) por medio de la técnica de difracción de electrones a baja energía.