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Title: Análisis de la viabilidad y eficiencia del proceso de oxidación avanzada Fenton aplicado como tratamiento de aguas residuales industriales
Advisor(s): Alva Diaz, Luis Enrrique
OCDE field: https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.07.00
Issue Date: 16-Feb-2022
Institution: Universidad Privada del Norte
Abstract: El crecimiento de actividades industriales en la actualidad ha producido un incremento de aguas residuales contaminantes que afectan la calidad de los cuerpos de aguas, en la presente investigación se seleccionó como tema de estudio el Proceso de Oxidación Avanzada Fenton para el tratamiento de aguas residuales de actividades industriales. En este trabajo se analizó la viabilidad y eficiencia del Proceso de Oxidación Avanzada Fenton aplicado como tratamiento de aguas residuales industriales. Es por ello que se tomo una muestra de cinco autores por medio de una búsqueda sistemática y palabras claves, de los cuales se analizaron los resultados de porcentaje de remoción de la Demanda Química de Oxigeno (DOO) y costos de aplicación de tratamiento. El mayor porcentaje de remoción de DQO entre los autores escogidos fue de Becerra y Cadena (2017) utilizando la dosis optima de t=75min, H2O2= 600mg/l, Fe+2=1000mg/L, T= 20°C, pH= 2.88, DQO/H2O2= 6.2, Muestra= 600ml. Asimismo, se cotizó la aplicación de Tratamiento de Oxidación Avanzada Fenton convencional para Menéndez tendría un costo total de S/. 2,479.20. Finalmente, se demostró que el Proceso de Oxidación Avanzada Fenton resulta ser viable y eficiente de implementar en aguas residuales de diferentes industrias. Adicionalmente al proceso Fenton según lo evidenciado por Becerra y Cadena la aplicación de un tratamiento físico posterior como la sedimentación aumenta el porcentaje de remoción de los parámetros.
Note: Breña
Discipline: Ingeniería Ambiental
Grade or title grantor: Universidad Privada del Norte. Facultad de Ingeniería
Grade or title: Ingeniero Ambiental
Juror: Alva Huapaya, Carlos Alberto; Murga González, Iselli Josylin Nohely; Flores Cerna, Juan Carlos
Register date: 24-Mar-2022; 24-Mar-2022



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