Deformación de red de películas delgadas de MoN en función de la temperatura del sustrato

Abstract

En el presente trabajo de tesis se estudió la deformación de red de películas delgadas de Nitruro de Molibdeno (Mo2N) en función de la temperatura del sustrato. Se depositaron películas delgadas de Nitruro de Molibdeno sobre un sustrato de Silicio a temperaturas de 100, 200 y 300 ºC mediante el método de pulverización magnética reactiva DC (Sputtering). Las películas fueron estudiadas mediante difracción de rayos X. El análisis de difracción de rayos X muestra que las películas crecen preferencialmente en la dirección cristalográfica (112), y presentan características policristalinas. La microdeformación y el tamaño de cristalito se determinaron mediante el método de Williamson Hall (W-H), el cual fue desarrollado en el software de programación OriginPro 2019. El tamaño de cristalito se incrementa desde 8,83 a 9,83 nm en el intervalo de 100 a 300 °C, mientras que la microdeformación para una temperatura de 100 ºC tiene un valor de 0,06 nm, para una temperatura de 200 ºC presenta un valor de 0,20 nm, y para una temperatura de 300 ºC presenta un valor de 0,08 nm mostrando que existe una influencia de la temperatura enestos parámetros.