Fabricación y Análisis de películas metálicas ferromagnéticas adheridas a subestratos semiconductores mediante deposición electroquímica

Abstract

Se presentan las propiedades estructurales y magnéticas de las películas de níquel (Ni), cobalto (Co) y hierro (Fe)crecidas por electrodeposición a partir de soluciones de sulfatos directamente sobre las superficies de semiconductor de galio arsénico (GaAs) tipo-n. En particular, se discuten las condiciones en las que se obtienen películas delgadas continuas con ausencia de inter-difusión o segregación superficial de arsénico (As) o galio (Ga) en la interface y propiedades eléctricas/magnéticas resultantes que confirman la alta calidad de las películas ferromagnéticas y de sus interfaces. Paralelamente, se presentan resultados experimentales para elucidar el crecimiento sin electrolito de estructura de cobre (Cu) a partir de soluciones de sulfato sobre substrato de silicona (Si) tipo-p mediante iluminación láser. Se demuestra la dependencia de las dimensiones estructurales con la duración, intensidad y longitud de onda de la iluminación y de la vida útil del portador en el semiconductor p-Si. Finalmente , se investiga el crecimiento de patrones metálicos foto – inducidos sin electrolisis a través de máscaras ópticas donde se demuestra la electro-deposición selectiva de Co y Ni sobre un patrón dopado n y p en una superficie de GaAs y Si.