Bibliographic citations
Dávila, M., (2019). Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019 [Tesis, Universidad Católica de Santa María]. https://repositorio.ucsm.edu.pe/handle/20.500.12920/9759
Dávila, M., Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019 [Tesis]. PE: Universidad Católica de Santa María; 2019. https://repositorio.ucsm.edu.pe/handle/20.500.12920/9759
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title = "Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019",
author = "Dávila Cajaña, Marco Gustavo",
publisher = "Universidad Católica de Santa María",
year = "2019"
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